PVD-Technik

Abscheiden von Schichten und Schichtsystemen mittels Vakuumbeschichtung

Wir bringen dünnschichttechnische Schichten mittels Vakuumbeschichtung durch Magnetronsputtern oder thermisches Bedampfen auf.

Dünnschichttechnische Beschichtungen finden z. B. als optische Reflexionsschicht oder als Startschicht für eine außenstromlos chemische Metallisierung ein breites Anwendungsfeld. So können beispielsweise dünne Schichten im Nanometer-Bereich für diffraktive optische Elemente in der Messtechnik aufgebracht werden. Hahn-Schickard verfügt für derartige Beschichtungen über eine Hochvakuum-Beschichtungsanlage, mit der verschiedenste Substratmaterialien wie Kunststoffe, Gläser oder Keramiken beschichtet werden können. Die Anlage besteht aus einer Einschleuskammer, in der eine Plasmavorbehandlung der zu beschichtenden Substrate realisiert werden kann, und einer Prozesskammer für die Hochvakuumbeschichtung. Mittels RF- oder DC-Magnetronsputtern können Schichten aus z. B. Aluminium, Gold, Chrom, Kupfer, Nickel, Titan, Zirkonium oder Siliziumdioxid abgeschieden werden. Es können bis zu drei verschiedene Werkstoffe in einem Beschichtungsprozess aufgebracht werden, was eine Kombination verschiedener Schichtwerkstoffe ermöglicht. Des Weiteren können mittels thermischem Bedampfen Schichten aus  z. B. Nickel/Chrom oder Kupfer aufgebracht werden.

Kontakt


Hagen Müller
Hahn-Schickard,
Stuttgart
Tel.: +49 711 685-84784
Hagen.Mueller@Hahn-Schickard.de
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